CVD高温管式气氛炉

1、用途：

CVD管式气氛炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等实验。

2、产品特点：

可根据用户需要设计生产（二温区、三温区、多温区），可预抽真空，通多种气氛。真空泵、阀采用进口设备，性能可靠。控制电路选用模糊PID程序控制技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。在预热方式上设有本公司自主研发的自动升温预热程序。在程序下完全不需要操作人员监看、调整工作电流，可将工作人员从繁琐的操作中解放出来。本系列CVD高温管式气氛炉制造技术已达国内领先水平。

3、技术参数：

型号	JK08-13-2B
设计温度	1000-1300℃
控温精度	±1℃
极限真空度	-0.01mpa（机械泵）
温区	双温区
管径长度	Ф100*1200
输入功率	9KW
电源电压	AC380V
加热原件	硅碳棒、镍铬丝